A estratégia imita o ocorrido há alguns anos na China e na Índia, países que construíram centros estatais similares de design, prototipagem e fabricação de chips, para desenvolver a infra-estrutura e os recursos humanos necessários para a implantação de um complexo industrial eletroeletrônico. O resultado foi mais do que satisfatório: a China atraiu os maiores produtores mundiais e exporta hoje mais do que US$ 200 bilhões em bens de tecnologia e a Índia também recebeu investimentos bilionários.

E, se depender do andamento da obra, a primeira da América Latina, o plano federal não é uma bravata. O projeto está realmente em execução, o que já inclui a preparação da unidade de água ultrapura, cuja concorrência internacional foi vencida no início de fevereiro pela filial da norte-americana GE Water and Process Technologies.	Cuca Jorge
	Piaia: GE vendeu unidade para fábrica nacional de semicondutores

 De acordo com o líder do grupo de soluções em equipamentos da GE, Rolando Piaia Jr., foi uma disputa de um ano e meio entre grupos globais especializados, com e sem filiais no Brasil. “É um contrato de alta especificação, que precisa atender aos padrões de água em níveis de ppt”, explicou Piaia.

O sistema da GE para o Ceitec, embora coberto de sigilo, engloba um pacote de tecnologias em módulos que, segundo o executivo, representa o estado-da-arte da água ultrapura. Mesmo sem afirmar qual é a seqüência do sistema, Piaia revela que fazem parte da planta um duplo passo de osmose reversa, a eletrodeionização (EDI) para polimento, colunas de troca iônica, membranas de ultrafiltração, membrana de remoção de gases (GTM, no caso para remover gás carbônico dissolvido) e equipamentos de radiação por ultravioleta (UV). E isso com válvulas e tubulações em PVDF, considerado um plástico de baixa condutividade, com sistemas termossoldados, para evitar retenção de micropartículas nas interferências das soldas.

Além disso, segundo Piaia, o sistema incluirá um novo conceito de osmose reversa, patentetado pela GE com o nome de Hero (High Efficiency Reverse Osmosis). Pela primeira vez no Brasil, trata-se de um processo que permite a membranas especialmente selecionadas pela GE operarem a pH médio alcalino, de 10 a 10,5. Isso faz as membranas não correrem riscos comuns à tecnologia, como o surgimento de biofouling (filme microbiológico que incrusta as paredes das membranas), pois nesse pH não há proliferação de microrganismos. Materiais orgânicos também se mantêm dissolvidos e sólidos ficam suspensos, não aderindo na membrana.

Essa possibilidade de operar com pH alto aumenta a recuperação da água da média normal de 70% da osmose reversa para 90% a 98% no primeiro passo e, de 85% a 90% no segundo. Para Piaia, a tecnologia só é possível graças ao pré-tratametno extremamente eficiente. Começa, no caso do fornecdio para o Ceitec, com um leito de resina catiônica fraca, para remoção de dureza da água. Após isso, a regeneração com ácido clorídrico acidula a água, gerando gás carbônico dissolvido.

Aí será necessário incluir uma unidade do equipamento GTM (gas transfer membrane), tecnologia que utiliza membranas capilares de PP para remover os gases dissolvidos. Esse processo garantirá uma água sem alcalinidade e quase sem o CO2 (abaixo de 10 ppm). Dessa forma, explica o executivo, torna-se muito fácil aumentar a alcalinidade, bastando um pouco de soda cáustica.

Toda a tecnologia GE em UPW, herança do portfólio de empresas adquiridas nos últimos anos (Glagg e Ionics), garantirá para a fábrica brasileira de semicondutores uma vazão de recirculação de 45 m3/h e de 39 m3/h no sistema de reposição. Com o tratamento feito com a água de abastecimento público de Porto Alegre, o sistema vai assegurar um grau de pureza extremado, o que significa os seguintes valores típicos: resistividade maior ou igual a 18,2 megaohm.com, sílica dissolvida e TOC menores do que 1 ppb, sílica total menor do que 3 ppb, além de cloretos e sulfatos abaixo de 20 ppt, e sódio, cálcio e magnésio inferiores a 5 ppt. Encomendada à matriz americana, a unidade entrará em operação no segundo semestre e foi totalmente adquirida pelo Ceitec (a GE também conta com outras modalidades de fornecimento, como o BOT, por exemplo).

De olho nos negócios – Caso vinguem os planos governamentais para fomentar o mercado de alta tecnologia, vários fornecedores locais do campo da água poderão aumentar suas vendas, uma vez que a demanda do UPW é dependente de uma grande gama de insumos e equipamentos.

Não é impossível imaginar que empresas até então com experiência em sistemas de água ultrapura apenas no campo farmacêutico tentem enveredar pelo novo filão de negócios, com exigências similares.  Como também é crível prever filiais de grupos estrangeiros incluindo em seus portfólios locais tecnologias que suas matrizes já vendem em profusão, em todo o mundo, para atender ao mercado de semicondutores.	Divulgação
	Unidade GTM vai remover o gás carbônico dissolvido em Porto Alegre

Um exemplo ilustrativo dessa possibilidade ocorre com as produtoras de resinas de troca iônica, empresas como Rohm and Haas, Lanxess, Purolite e Dow, que possuem grades específicos para o setor, largamente comercializados no Exterior. Para uma delas, aliás, a hipótese de internar essas resinas seria um retorno a um mercado que já chegou a existir, respeitadas as diferenças de época, no Brasil da década de 80. Isso porque nesse período vigorava a famigerada Lei da Reserva da Informática, o que fez empresas fabricarem computadores no Brasil, casos da IBM, da Texas Instruments, da SID Microeletrônica e da Itautec. “Todas elas contavam com unidades UPW para semicondutores e nós vendíamos sistemas de resinas específicos”, recorda o gerente de desenvolvimento de mercado da Rohm and Haas, Osmar da Cunha.

Esta fase só durou até a abertura comercial do início da década de 90, quando a liberação total de importação de equipamentos de informática praticamente desativou a precária indústria nacional. Aliás, ter havido esse mercado não significa que o retorno das vendas será simples para os fornecedores. Na verdade, muita coisa mudou desde então, não apenas na revolução digital que ocorreu ao longo dos anos, mas também no tratamento da água. Para começar, as unidades existentes no Brasil não contavam com unidades de osmose reversa, apenas com colunas de troca iônica para a desmineralização, e hoje praticamente todos os sistemas UPW se utilizam de estações de duplo passo com as membranas. E, por fim, as resinas também eram diferentes.

“Na época, usávamos no leito misto de polimento a tecnologia Ambersep, que dispunha de uma camada intermediária de resina inerte, entre as camadas catiônicas e aniônicas, para não permitir a mistura de ácido e soda das camadas catiônica e aniônica”, lembra Cunha.